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產品詳細頁
煙氣中NH3分析系統

煙氣中NH3分析系統

  • 產品型號:ENDA-C2000
  • 更新時間:2024-03-18
  • 產品介紹:煙氣中NH3分析系統
    它可以對氨干式脫硝裝置排放出來的尾氣中的殘留NH3濃度進行連續檢測。采用了無漂移化學發光法分析儀(CLA),檢測器實現了高度化。并且,由于使用了半導體傳感器,所以工作奉命長。可監測脫硝催化劑的劣下、限制NH3的注入量、防止硫酸銨結晶物的生成等,在設備的監測、控制方面可以發揮出威力 。
  • 在線留言 86-21-54933058/54933060/54933358/54182486/28097339

產品介紹

煙氣中NH3分析系統

產品性能

搭載有無漂移化學發光法分析儀(CLA)。

實現了NH3、NOx小量程0?10ppm。

采用了利用氧氣常磁性的劃時代磁壓方式的氧氣分析儀。實現了優異的耐久性、高精度、高速響應。

具有從低濃度到高濃度的大范圍量程。

采用了大幅提高了操作性的前面操作方式。

具有可通過微機對檢測狀態進行監測、控制、運算處理、存儲等功能,容易使用,更加方便進行維護。

良好的自我診斷功能

還可以滿足設置條件多樣化的需求。

產品技術規格

 

檢測成分和量程

NH3:
(標準量程)20?100ppm
(可選項量程)10ppm?20ppm以下
(量程比)10倍以內
NOx:
(標準量程)20?100ppm
(可選項量程)10ppm?20ppm以下
(量程比)10倍以內
O2:
(標準量程)5?25vol%
(量程比)5倍以內
(量程數各成分3量程)

再現性

±0.5FS%、如果包括可選項量程時,±1.0FS%(周圍溫度、-5?40℃的情形)

響應速度

裝置入口:T90、90秒以下
校正氣體入口:T90、70秒以下

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